Fabrication : Etching - Overetch is useful

 一般來說Overetch 可能會侵蝕到原本不想蝕刻的地方, 導致Pattern distortion. 不過有時候倒是能夠利用Overetch 底下的面積, 來縮減Pattern間的間隙. This is called controlled overetch.  以下按例附圖XD

Fabrication : Photolithography Roadmap

我覺得讀書, 有好的圖表是很重要的XD 至少對我來說是這樣. 以下放上一張Lithography的演進表,如果對Lithography的技術已經有點概念, 再回來看這張應該滿有感覺的XD

原文出處:http://chemgroups.northwestern.edu/odom/chem445/Lecture%208%20--%20Nanofabrication.pdf

Lecture : nterdisciplinary Chemistry, Engineering, and Physics

有些講義做得滿好的, 有趣的是可以看出每個老師的風格還有用心程度XDDD
其中我覺得Eril Chen的講義有條理又清楚, 不失為作為一個參考.

http://www.mrsec.harvard.edu/education/ap298r.php

Fabrication: Wet-Etching - Common Etchant

Fabrication : Dry Etching - RIE (Reactive Ion Etching)

      **Plasma 的用意在于用電性控制帶電離子方向, 藉以增加控制離子撞擊的方向性.